Začiatok: 21. 03. 2023 09:00
Koniec: 23. 03. 2023 12:00
Typ podujatia: Workshop
Organizátor: IMPULSE project; ELI-NP
Miesto konania: Workshop
Štát: Rumunsko
V dňoch 21.-23. marca 2023 sa v rumunskom meste Măgurele uskutoční workshop s názvom ’Standardization of metrology procedures for lasers and secondary sources’ (STAMPLASS 2023). Workshop sa uskutoční pod patronátom projektu IMPULSE, ktorý zoskupuje zariadenia ELI (Extreme Light Infrastructure).
ELI – Extreme Light Infrastructure
ELI je najväčšia a najpokročilejšia infraštruktúra vysokovýkonných laserov na svete. Zaraďuje sa medzi globálneho technologického a inovačného lídra v oblasti vysokovýkonných, vysokointenzívnych a krátkoimpulzných laserových systémov.
Dostupnosť spoľahlivých riešení a prijatých protokolov pre metrológiu laserov s vysokým špičkovým výkonom a vysokou opakovacou frekvenciou a z nich odvodených sekundárnych zdrojov je rozhodujúca pre prevádzku zariadení ELI, ako aj pre umožnenie vynikajúceho výskumu a prístupu používateľov k ELI.
Zameranie workshopu
Workshop sa zameriava na dve hlavné témy:
- Preskúmanie postupov a procesov zaručujúcich konzistentnosť v metrológii extrémne ľahkej infraštruktúry. Identifikovaná štandardná diagnostika bude k dispozícii na implementáciu v zariadeniach ELI.
- Výmena skúseností so zainteresovanými stranami spoločenstva (iné výskumné infraštruktúry, siete používateľov, priemyselní partneri) v oblasti štandardnej diagnostiky pre lasery s vysokým špičkovým výkonom, vrátane možného zapojenia externých laboratórií na testovanie a porovnávanie identifikovanej diagnostiky.
Workshop bude pozostávať z niekoľkých zasadnutí s prednáškami a poster zhromaždením. Všetci potenciálni prispievatelia k metrológii laserom riadených zdrojov z akademickej obce a priemyslu sú pozvaní, aby prispeli k workshopu krátkymi ústnymi/posterovými prezentáciami o svojom vlastnom výskume/prístupe.
Hlavné témy
- Laserová metrológia
- Elektrónová metrológia
- Gama metrológia
- THz metrológia
- Protónová a iónová metrológia
- Röntgenová metrológia
- XUV metrológia
K registrácií je potrebné doložiť vyplnený abstrakt, ktorý nájdete TU.
Uzávierka pre podanie abstraktu a registrácie je do 10.02.2023.
Zdroje: impulse-project.eu, eli-np.ro; zverejnené: 2.2.2023, autor: onz
